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電磁屏蔽玻璃 - 金屬膜屏蔽玻璃
來源: | 作者:kahoglass | 發布時間: 2017-09-05 | 5375 次瀏覽 | 分享到:
嘉顥特玻電磁屏蔽玻璃廠家加工生產定制金屬膜屏蔽玻璃;流程監控,出貨檢測,防震包裝,安全運輸,細致的售后服務。咨詢獲取免費測試樣品
金屬膜屏蔽玻璃
采用在玻璃表面鍍制金屬或者金屬氧化物薄膜來達到電磁屏蔽的目的是比較常用的方法。膜層一般是導體,也可以是半導體,由于膜層材料和厚度的不同,對電
波屏蔽的波長范圍和衰減效果也不同。層的種類主要有貴金屬膜如金膜、銀吧謨、金一銀、金一銅、一锏復合等;全屬謨如鈦、鋁、鈷、鉻、鎳、錫錳、銅等;氧化物膜如氧化錫、氧化一氧化錫及上述金屬的氧化物膜等,膜制作工藝包括物理氣相沉積:真空蒸發法、陰濺射法、等離子濺射法等;化學沉積:熱 CVD、激光 cVD、等離子 CVD等;化學熱分解:液體噴涂、固體微源涂、熱分解等;溶膠一凝膠法;多層浸漬一熱分解等。
圖1是電磁波在金屬屏蔽謨表面及內部吸收和反射過程的示意圖·圖中,為電磁波從空氣介質至金屬表面的反射系數, p。為電磁波從金屬屏蔌膜到空氣介質面的反射系數,為傳播系數。電磁波從左邊向右邊傳播,到達屏蔽膜 A面一部分反射回去,另一部分穿透屏蕊謨進人謨層,然后在膜層內繼續衰減傳播,當到達 B面時,同樣有一部分反射回屏蔽膜內,一部分穿透界面進人空氣介質,反射回屏蔽膜內的反射波在到達 A面時又會發生反射和透射,這樣在屏蔽膜內部產生多次反射過程。多次反射修正系數是一個負值,起著減少界面反射損耗的作用。鍍膜電磁屏蔽玻璃的屏蔽效率主要決定于膜層的方塊電阻、輻射源及其到屏蔽玻璃的距離。由于這層薄膜很薄,其厚度遠小于河4巛為干擾電磁波的波長),因此吸收損耗可以忽略不計,主要靠反射損耗來進行屏藪,但多次反射往往不能完全忽略
電磁波在金屬屏蔽膜表面及內部吸收和反射過程
▲【圖1】電磁波在金屬屏蔽膜表面及內部吸收和反射過程▲
在理論上,導電膜對于高阻抗輻射源在近場范圍內的屏蔽效率SE為:
SE=r+r·=20lg*{K/(D·F·R)}   【K為一個常數;D表示輻射源與屏蔽玻璃的間距;F為屏蔽場的頻率;R為透明導電膜的方塊電阻】
方塊電阻R/Ω
屏蔽效率SE/dB
F=3~10MHz F=10~30MHz
F=30~100MHz
F=100~300MHz
F=300~1000MHz
100 - - 42.2 32.2 22.2
20 - - 56.2 46.2 36.2
5 88.2 78.2 58.2 58.2 48.2
▲【表1】具有不同方塊電阻值的透明導電膜對于高阻抗輻射源的屏蔽效率▲
與夾金屬絲網屏蔽玻璃相比,鍍膜屏蔽玻璃的屏蔽效能較低,但在一定范圍內相差不是很明顯,只有在電磁波頻段較高時,二者差別比較大。此外,這種屏蔽玻璃的透射比與表面方塊電阻呈線性關系,當透射比為60%~80%,相當于表面方塊電阻約10~100Ω。因此,鍍膜屏蔽玻璃的光學透視率要明顯好于夾金屬絲屏蔽玻璃。下表2是鍍膜屏蔽玻璃與夾金屬絲網屏蔽玻璃屏蔽效能的比較。因此,鍍膜屏蔽玻璃的光學透視率要明生夾金屬絲網屏蔽玻璃。表一是鍍膜屏蔽玻璃與夾金屬絲網屏蔽玻璃屏顯幻的比較。在實際情況中經常存在的不是完整的屏蔽,而是孔洞、縫隙等不完全屏蔽,兩種電磁屏蔽玻璃正好可以起到屏蔽作用,彌補屏蔽的不完整性,提高整體屏蔽效能。因此,在既有電磁屏蔽要求,又有一定可視要求的部位,電磁屏蔽玻璃也大量應用在安全保衛部門辦公區的可視窗口,商業寫字樓辦公室的玻璃隔墻
頻率/MHz 夾金屬絲網屏蔽玻璃效能/dB 鍍膜屏蔽玻璃屏蔽效能/dB
1 95 81
10 90 63
100 81 36
1000 65 12
▲【表2】鍍膜屏蔽玻璃與夾金屬絲網屏蔽玻璃屏蔽效能比較▲
當今,用來屏蔽電磁波輻射的膜層主要是由 TCO膜和銀膜組成的透明導電膜。過去,在某些涉及到陽光控制膜的情況中,它們也和金膜系結合起來使用果是起減反射的作用, TCO膜組成的膜系可以通過一個或兩個單獨的 TCO膜層來構成。其中的一種結構是一個五層膜的膜系(glass-Si02-ITO-Si02-ITO-Si02),膜層總厚度大約為215nm。這種由 TCO膜組成的膜系不僅具有很高的透過率,而且它的方塊電阻值也可以達到只有大約100的水平。如果要求的方塊電阻只有幾歐姆,那么由貴金屬組成的膜系通常都采用單層或兩層銀膜。雙銀膜系不僅可以達到10的方塊電阻值,還可以使光線透過率值>75%。

原文來自:電磁屏蔽玻璃的制造方法及分類
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